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作者:合豐發(fā)布日期:2023-08-26瀏覽人數(shù):442
等離子清洗機(jī)分為真空和非真空兩種類型,非真空是大氣壓力,或常壓等離子清洗機(jī),非真空等離子清洗機(jī),主要用于清如手機(jī)玻璃蓋板或一些小規(guī)模清潔
為什么等離子清洗機(jī)需要真空環(huán)境進(jìn)行處理?
等離子清洗機(jī)引入真空環(huán)境的原因有很多,但簡單地說,主要有兩個原因:引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會電離,在充氣電離產(chǎn)生等離子體之前必須達(dá)到真空環(huán)境。此外,真空環(huán)境允許我們控制真空室中的氣體類型,控制真空室中氣體類型對等離子處理過程的可重復(fù)性至關(guān)重要。
要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,我們首先生產(chǎn)等離子。首先,將單個氣體或混合氣體引入密封的低壓真空等離子室。然后這些氣體被兩個電極板之間的射頻產(chǎn)生(RF) 激活,這些氣體中激活的離子加速并開始振動。這種振動需要清潔材料表面的污染物。
在處理過程中,等離子中激活的分子和原子會發(fā)出紫外線,產(chǎn)生等離子光。溫度控制系統(tǒng)通常用于控制蝕刻速率。- 9d攝氏度溫度之間的蝕刻速度是室溫蝕刻速度的四倍。等離子蝕刻溫度可控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)都已預(yù)編程并集成到等離子系統(tǒng)的軟件中間。
不同的氣體可以通過將不同的氣體引入等離子室來改變處理過程。常用的等離子處理器體包括Q2,N2,Ar,H2 和CF4。世界各地的大多數(shù)實驗室基本上使用這五種氣體進(jìn)行等離子處理。
等離子處理通常需要大約兩到十分鐘。等離子處理完成后,真空泵清除等離子室內(nèi)的污染物,室內(nèi)材料清潔消毒,可粘接或下一步。
等離子是氣體分子在真空、放電等特殊場合形成的物質(zhì)。等離子清洗/蝕刻形成等離子的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電磁場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度,然后氣體越來越薄,分子間距和分子或離子的自由運行距離越來越長,受磁場的影響,碰撞形成等離子,同時發(fā)光。等離子在電磁場中的空間運行,轟擊被處理物體的表面,從而達(dá)到表面處理、清潔和蝕刻的實際效果。
合豐機(jī)械集團(tuán)專注于表面處理行業(yè)的開發(fā)及應(yīng)用20多年,電暈機(jī)、電暈處理機(jī)、等離子機(jī)、靜電產(chǎn)生器、靜電消除器、除塵機(jī)、UV固化、UV電源、電子UV、UV燈箱、等離子處理系統(tǒng)、真空等離子、火花機(jī)、等離子處理、火焰處理機(jī)、電子火花機(jī)、電火花沖擊機(jī)、表面處理機(jī)、高分子表面花化機(jī)、UV燈管、UV變壓器、等等。是一家集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家高新科技企業(yè)。
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